Silicium halfgeleiders voor licht

10 december 2013, 14:36
Silicium halfgeleiders voor licht
Silicium halfgeleiders voor licht

Wetenschappers van het onderzoeksinstituut MESA+ van de Universiteit Twente hebben samen met onder andere ASML en de Stichting FOM een methode ontwikkeld om 3D-structuren in silicium te etsen. Deze structuren die lijken op een diamantstructuur gedragen zich als fotonische kristallen (halfgeleiders voor licht) en maken het mogelijk om licht te manipuleren door het bijvoorbeeld ‘op te sluiten’, of door gebieden te creëren waarin licht van een bepaalde golflengte niet kan doordringen. De nieuwe methode maakt gebruik van bestaande fabricagetechnieken in de chipsindustrie zodat elektronische en fotonische componenten eenvoudig samen op één chip kunnen worden geïntegreerd. Hiermee komt de optische computer een stap dichterbij.

 

De driedimensionale nanostructuren worden in twee stappen aangebracht. Eerst wordt met behulp van ASML’s geavanceerde diep-UV lithografie een masker met miljoenen minuscule gaatjes op een silicium wafer aangebracht. Vervolgens worden met een plasma-etsproces uit de chipsindustrie zeer diepe nanoporiën in het silicium geëtst. De uitdaging bestaat uit het aanbrengen van een vergelijkbaar patroon op de zijkant van de wafer met een afwijking van maximaal 30 nanometer. Uit optische reflectiemetingen is gebleken dat de zo verkregen diamantstructuren zich als zeer goede fotonische kristallen gedragen.

 

Meer info:
http://www.utwente.nl/nieuws/ut-ontwikkelt-methode-om-3d-fotonische-kristallen-te-creëren

Reacties worden ingeladen...
gerelateerde items